İzdüşümlü Optik Desenleme
Fotolitografide en fazla kullanılan metod budur. Bu yöntemde maskedeki desen istenirse aynen ya da küçültülerek direnen malzeme üzerine aktarılır. Tümleşik devre endüstrisinde desen genellikle 4-5 kat küçültülür.
Maskedeki desen merceklerden oluşan sistem sayesinde küçültülür. Maske ile sübstrat arası mesafe, yakınlaşma ile desenlemeye göre oldukça fazladır - yaklaşık 0.5 m.
Taşındım! Yeni adresim: http://nanoturkiye.net
24 Mart 2008 Pazartesi
İzdüşümlü Optik Desenleme